Obtención de películas delgadas de óxido de grafeno por métodos fisicoquímicos

Resumen Se estudiaron diferentes métodos de fabricación para generar películas delgadas con óxido de grafeno (GO). El GO se sintetizó por un método químico de Hummers modificado, este material se caracterizó por SEM, XRD, FTIR. Fueron realizados depósitos sobre sustratos de cobre y se analizarón las propiedades y características de las películas obtenidas mediante las técnicas SEM, FTIR, XRD y Raman, así como técnicas electroquímicas de curvas potenciodinámicas y espectroscopia de impedancia electroquímica. Las películas obtenidas no presentaron una superficie morfológica homogénea de acuerdo con lo observado en microscopía SEM. Algunas de las películas fueron reducidas químicamente, lo cual se pudo constatar con los resultados obtenidos con la técnica espectroscópica de Raman y difracción de rayos X. Conforme a las pruebas electroquímicas, se observa que las películas depositadas aportan un grado protección que podría ser optimizado, bajo diferentes condiciones de depósito a la analizadas en este estudio, para emplearse como barrera de protección contra la corrosión.

Abstract Different methods for manufacturing thin films of graphene oxide (GO) were studied. GO was synthetized by a modified Hummers method and was characterized by SEM, XRD and FTIR. Films deposition on copper substrate were made. Films properties and features were analyzed by SEM, RAMAN, FTIR, XRD and electrochemical techniques such as potentiodynamic and electrochemical impedance spectroscopy. Obtained films exhibited a non-homogenous superficial morphology in harmony with results observed in SEM. Some films were chemically reduced; this was verified with Raman spectroscopy technique and X ray dispersion. In agree with electrochemical tests it was determined that deposited films present a protection degree which can be optimized by testing different conditions to those analyzed in this study, to be used as protective barrier against corrosion.